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    AMC空气分子污染物VOC监测系统

    产品详情:连续监测@ sub ppb级醋酸、草酸、胺类、N-甲基毗咯烷酮(NMP)、六甲基二硅胺烷(HMDS)、邻苯二甲酸二辛酷(DOP)、邻苯二甲酸二丁酷(DBP)、邻苯二甲酸二乙酷(DEP)、异丙醇、丙酮、硼酸三甲醋、二甲苯、磷酸三乙酷---等其他有机物空···...
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    详情介绍

    产品详情:

    连续监测@ sub ppb级

    醋酸、草酸、胺类、N-甲基毗咯烷酮(NMP)、六甲基二硅胺烷(HMDS)、邻苯二甲酸二辛酷(DOP)、邻苯二甲酸二丁酷(DBP)、邻苯二甲酸二乙酷(DEP)、异丙醇、丙酮、硼酸三甲醋、二甲苯、磷酸三乙酷---等其他有机物

    空气分子污染物(AMC)对于高科技生产过程是关键性因素,特别是微电子行业,有机污染物是生产过程中的消极因素,会导致高科技公司因产品质量问题而产生的成本增加。

    无空气分子污染物生产是理想的生产目标,通过污染物源头控制、传播控制,实时监控污染物浓度并结合多级过滤器以及新风系统来实现,持久监测AMC浓度,有助于掌握污染物源头稳定生产、预防过滤器突发性寿命减少等。

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    阿瑞斯-uVOC提供给客户一个实时快捷持续的在线空气分子污染物AMC监测方案,不需要采样,离线测量。

    检测限达到sub-ppb级

    洁净室环境中的空气分子污染物 AMC,内部来自建筑材料释出、设备和材料释出、腐蚀和光刻等工艺过程中化学药品逸散、人员产生、管路泄露、设备维护修理时散发等,外部来自环境空气中存在的气相污染物,以及洁净室的废气排放重新送回洁净室。

    一旦AMC空气分子污染物超标会引起一系列严重后果,比如晶圆废弃、停产、重新净化洁净室等。

    空气分子污染物问题:从洁净间到生产机台加工

    随着IC产品生产成本的增加,空气分子污染物AMC的监测变得越来越重要。

    污染物从加工到超净间的扩散,并且成份的增加,分子污染物来自多个源头,比如生产化学药剂.

    建筑材料、洁净间设备装置、操作人员等。

    阿瑞斯-uVOC 系统意味着潜在鉴别空气分子污染物与产生污染问题和减少污染问题之间的关联,完整的全量程全组份实时sub-ppb 级测量,提供早期AMC监测和快速确定这些污染问题的原因。

    特点优势:

    在线连续质量监测全部自动化系统
    低浓度 VOC监测
    独立分开测量有机物成份

    Sub-ppb 检测限

    集成计算机和控制软

    件以及数据采集与处理功能
    通过成份形成跟踪污染物源头:

    许多生产过程化学药剂成为污染物的源头,NH;因光刻工艺过程而最为著名。六甲基二硅胺烷 (HMDS) 又分解成三甲基硅醇和 NH3,等等很多类似的化学药剂的分解与释放,都造成 AMC 的增加。而实时迅速测量这些成份浓度的阿瑞斯-uVOC系统可以跟踪污染物形成的时间和路线。

    污染物交叉干扰是另一个洁净室控制的难题,事实上,由于洁净室内部气体循环,一个工艺段上的必须用的药剂或溶剂有可能成为另一个不同工艺段的危害物或污染物。多亏阿瑞斯-uvoc 系统强大的多组份低浓度测量能力,为洁净室交叉干扰难题提供了绝好的解决方案。

    实时监测过滤器状态:在新风空调箱(MUA)、高效过滤器 (FFU)生产机台上方 SWIF 下方安装化学过滤器,实际生产过程中过滤器的维护和更换,如果太早或者太迟都会引起产品成本的增加和效率的降低,甚至大的生产事故,停产。

    带有16通道的阿瑞斯-uVOC系统可以监测过滤器的上下游空气分子污染物AMC浓度,当进来的气体不符合过滤标准时采样点位于进风系统上游;当吸收能力耗尽时采样点位于下游

    过程生产工具:

    阿瑞斯-uVOC系统专为连续监测、无人值守操作设计,是专业的过程分析工具,16 通道采样点可以通过设置自动进样进行分析,每个通道都有报警设置功能,移动式使用功能使阿瑞斯uVOC系统成为诊断空气分子污染物AMC的理想工具。

    板载标定功能匹配严格的质量控制规则。

    实时显示测量结果,无计算运行。

    标配,给提供客户远程联网技术支持服务。

    技术参数:

    GC气相色谱是分离多种复杂混合物常用的技术,这种技术依赖于挥发性有机混合气体在色

    谱柱的多组份分离。当不同的挥发性有机物从色谱柱分离出来后通过氢气/空气火焰离子检测器探测电导率的变化,从而确定不同组份的浓度,独特的吹扫和载气系统可使仪器达到sub-ppb 检测限

    工作原理:GC-FID
    测量量程:0-200 ppb
    准确度:2%
    尺寸(HxWxD)160cm x60 cm x80 cm
    防护等级Nema 12 或IP54 不锈钢外壳
    工作温度:10°C-35°C
    通讯:RS-232, Ethernet, ODBC
    电源:230Vac.50/60Hz900W
    供气要求:CDA5l/min H2130 sccm (可选 H2发生器)
    采样通道:高达16
    分辨率:0.1 ppb
    测量组份:高达30.客户可定制

    应用范围:

    洁净间污染物监测

    过滤器状态监测

    加工过程全组份测量诊断污染物


    可测组份:

    2-氨基乙醇CH3NH2CH2OH (t-乙酸丁脂)二羟基甲苯H3CC6H3(t-C4Hg)2OH

    2-氨基丙醇CH3NH2C2H4OH

    六甲基二硅胺烷(CH3)3SiNHSi(CH3)3

    异丙醇(CH3 )2CHOH

    二乙氨基乙醇(C2Hs)2NC2HsOH

    乙醇胺H2NCH2CH2OH

    邻苯二甲酸二辛酯C6H4(C=OOCgH15)2

    环己胺C6H11NH2

    邻苯二甲酸二乙酯C6H4(C=OOC2Hs)2

    环聚二甲基硅氧烷(-Si(CH3)2O-)n

    邻苯二甲酸二丁酯C6H4(C=00C4Hg)2

    对二氯苯CIC6H4CL

    三乙胺(C2Hs)3N

    邻苯二甲酸二壬C6H4(C=OOCgH19)2

    邻苯二甲酸二环己酯C6H4(C=OOC6H11)2

    邻苯二甲酸二癸 C6Ha(C=OOC1oH21)2

    磷酸三乙酯(C2HsO)3P=0

    十甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)5

    十二甲基环五硅氧烷(-Si(CH3)2O-)6

    二甲苯(CH3)2C6H4

    三甲酚磷酸酯(CH3C6H4O)3P=0

    三甲基硅醇C3H1oOSi
    等等


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