半导体洁净车间 AMC 管控、冷媒泄漏监测长期面临多项难题：

1. 传统 GC-MS 等设备需色谱分离、样品前处理，检测滞后，无法捕捉瞬时微量泄漏与突发工艺污染；

2. 常规仪器检出限不足，难以精准识别 ppt 级微量 AMC 污染物，高湿、高纯工艺气体基体下检测稳定性差；

3. 单台设备组分覆盖有限，无法同步检测 VOC、硅氧烷、各类冷却剂等多类杂质；

4. 操作繁琐，依赖专业人员值守，难以实现车间 24h 不间断在线无人监测。

针对上述行业痛点，SIFT-MS （选定离子流动管质谱仪）依托选定离子流动管质谱核心技术，跳出传统色谱的检测框架，可在复杂气体基体中实现挥发性有机物及关键工艺相关气体的实时定性与定量。

与传统分析技术(如GC-MS、FTIR、CRDS)形成互补：SIFT-MS用于连续在线监测与多组分快速筛查，传统技术用于复杂体系确证与深度分析。该组合有效突破半导体制造中对实时性、多组分检测及低浓度污染物识别的限制，构建面向AMC监测、冷却剂泄漏预警及工艺异常诊断的高效分析体系。

⏱️快速检测｜秒级响应，连续在线

免去色谱分离步骤，秒级出数据、全天候连续监测；支持多路多点采样、高频扫描，精准捕捉瞬时污染、早期微量冷媒泄漏。

⚙️操作简便｜直接进样，适配多基体

气体样品直接进机，无需浓缩、转化等前处理；兼容洁净室空气、大宗工艺气体、特种高纯气体等复杂工况基体。

📈超高灵敏｜ppt 级检出，抗干扰稳定

自动化多试剂离子智能切换，最低检出限可达 ppt 级别，车间高湿、复杂杂质背景环境下，数据依旧稳定可靠。

⚛️组分全面｜多物质同步筛查

单机同步检测全品类目标物：AMC 污染物（VOC、硅氧烷、无机杂质）、各类冷却剂（HTF7300、Galden、R407c 等）、制程工艺释放气体。

附加亮点：整机全流程自动化，一键启动运行，可长期无人值守在线监测。

1、洁净室AMC多点位定位监测

最远覆盖 200 米、支持 32 点位轮巡，7×24h 不间断运行；秒级预警突发污染，数据可视化报警，符合 SEMI S2/S8 规范，设备稼动率高、维保工作量少。

2、洁净室AMC移动式排查检测

机身便携可移动，快速锁定污染源、挽回制程良率；自带内置气源与刹车装置，续航 1.5h，现场即时出检测数据，合规 SEMI 安全标准。

3、大宗、特气杂质检测

对 N₂、O₂、Ar 等基体气体无干扰，适配三氟化氮（ NF3）、二氧化碳（CO2）、氩气（ Ar）、洁净干燥空气（CDA）、氢气（ H2）、氖气（ Neon）、一氧化氮（NO）等多种工艺用气，精准检测气体内 ppt 级微量杂质。

4、可检测污染物品类

全覆盖四类关键管控物质：PFAS 含氟冷媒、硅系杂质、含硫有机物、含磷有机物，适配半导体全品类 AMC 管控需求。

立足半导体精密制造严苛管控需求，SIFT-MS （选定离子流动管质谱仪） 以秒级快检、免前处理、ppt 级高灵敏、全组分同步监测的硬核实力，破解传统监测滞后、灵敏度不足、运维繁琐等行业痛点。全自动化无人值守的运行模式，全方位守护洁净车间空气品质与设备安全，是半导体 AMC 管控、冷媒泄漏预警、工艺异常诊断的优选监测解决方案，助力工厂精细化气体质量管理，筑牢生产品质防线。